Pengaruh Variasi Volume Gas Argon, Voltase, dan Jarak terhadap Ketebalan Coating pada Material Karbon Aktif Menggunakan Metode Taguchi

Kurniawan, Wahyu (2023) Pengaruh Variasi Volume Gas Argon, Voltase, dan Jarak terhadap Ketebalan Coating pada Material Karbon Aktif Menggunakan Metode Taguchi. Diploma thesis, Universitas Andalas.

	Text (Cover dan Abstrak) Cover dan abstrak Wahyu Kurniawan.pdf - Published Version Download (219kB)
	Text (BAB 1(Pendahuluan)) BAB 1(Pendahuluan)_ Wahyu Kurniawan.pdf - Published Version Download (56kB)
	Text (BAB V) BAB V_Wahyu Kurniawan.pdf - Published Version Download (100kB)
	Text (Daftar Pustaka) DAFTAR PUSTAKA_Wahyu Kurniawan.pdf - Published Version Download (112kB)
	Text (Tugas Akhir Utuh) Tugas Akhir_ 1810913019 Wahyu Kurniawan.pdf - Published Version Restricted to Repository staff only Download (1MB)

Abstract

Lapisan tipis merupakan terlapisnya substrat terhadap material memiliki ketebalan nanometer hingga mikrometer. Salah satu metode untuk membentuk lapisan tipis pada material adalah metode DC magnetron sputtering. pada dasarnya, mesin DC magnetron sputtering, dibagi menjadi 3 bagian utama, yaitu: tabung vakum, power supply, dan pompa vakum. Kelebihan metode DC magnetron sputtering ini yaitu prosesnya mudah, membutuhkan waktu relatif cepat dibandingkan dengan proses pelapisan biasa dan ketebalan lapisan pada metode ini dapat dengan mudah dikontrol. Penelitian ini menguji pengaruh jarak posisi target terhadap ketebalan coating dengan input voltase dan tekanan pada gas argon menggunakan metode Taguchi. Jarak posisi diatur dengan mengatur baut katoda dan anoda, kemudian menempatkan voltase dan tekanan gas argon sebagai input nya serta jarak sebagai output nya. Pada penilitian ini, substrat kaca digunakan sebagai media coating. Sedangkan bahan pelapis menggunakan karbon aktif. Tiga variasi voltase yaitu 20 kv, 22 kv dan 24 kv digunakan untuk menguji ketebalan coating. Kemudian jarak diatur antara kaca dengan magnet yaitu 2 cm, 4 cm, dan 6 cm. Sedangkan variasi tekanan pada gas argon yaitu 5 liter/menit, 10 liter/menit dan 15 liter/menit. Proses coating dibuktikan dengan adanya bercak pada substrat. Bercak pada substrat dapat diukur ketebalannya menggunakan Coating thickness gauge. Metode ekspeimental Taguchi digunakan untuk mendapatkan ketebalan coating dengan pendekatan Smaller the Better. Hasil pengujian didapatkan nilai terkecil adalah 11,33 μm, Sedangkan ketebalan coating terbesar yaitu 23 μm. Pada analisa ANOVA (Analysis of variance) didapatkan variasi jarak memiliki kontribusi sebesar 83,747%, kemudian variasi voltase memiliki kontribusi sebesar 15,133% dan gas argon memiliki sebesar 8,54%. Dari hasil tersebut dapat disimpulkan, jarak merupakan parameter paling berpengaruh terhadap ketebalan coating kemudian diikuti oleh voltase dan gas argon. Kata Kunci: DC Magnetron Sputtering, Taguchi

Actions (login required)

View Item